光刻技术的原理是什么
来源：MINISO栏目：生活时间：2024-05-20 23:54:46
光刻技术的原理：集成电路制造中利用光学、化学反应原理和化学、物理刻蚀方法，将电路图形传递到单晶表面或介质层上，形成有效图形窗口或功能图形的工艺技术。
随着半导体技术的发展，光刻技术传递图形的尺寸限度缩小了2至3个数量级，已从常规光学技术发展到应用电子束、 X射线、微离子束、激光等新技术；使用波长已从4000埃扩展到 0.1埃数量级范围。
免责声明：该内容由用户自行上传分享到《 秘密研究社》，仅供个人学习交流分享。本站无法对用户上传的所有内容（包括且不仅限于图文音视频）进行充分的监测，且有部分图文资源转载于网络，主要用于方便广大网友在线查询参考学习，不提供任何商业化服务。若侵犯了您的合法权益，请立即通知我们( 管理员邮箱：[email protected])，情况属实，我们会第一时间予以删除，并同时向您表示歉意，谢谢！！
